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光刻機
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光刻機輸家的反擊
能看到，雖然ASML在光刻機行業(yè)一家獨大，但圍繞該產(chǎn)業(yè)的競爭從未停歇。光刻技術(shù)，走下「神壇」
光刻機，向來被視為半導體制造的命脈。但近期多家芯片巨頭釋放的信息顯示，未來光刻技術(shù)可能不再是唯一選擇，即便是很難搶到的High-NA EUV，也多處于“閑置”狀態(tài)。玻璃基板，更近了
Synopsys高級產(chǎn)品營銷經(jīng)理 Travis Brist 表示：“我們目前面臨的最 大挑戰(zhàn)是如何最 大限度地利用光刻工具。雖然我們一直在努力做到這一點，但它正變得越來越重要?！?/div>市值蒸發(fā)1000億，ASML談及中國市場
國產(chǎn)光罩基板，路在何方?
目前，全球市場上大規(guī)模使用的光罩主要來自于日本的豪雅(Hoya)和信越(Shinetsu)，AGC。第四代半導體，破曉時刻
全球首顆第四代半導體氧化鎵8英寸單晶，刷新了氧化鎵單晶尺寸的全球紀錄。這一成果，也標志著中國氧化鎵率先進入8英寸時代。1nm，最新進展
展望 2030 年以后，我們看到，imec 預計新材料將取代硅，二維原子通道也將出現(xiàn)。Imec 還認為，隨著行業(yè)不可避免地轉(zhuǎn)向量子計算，基于磁性的柵極可能會成為一種替代方案。光刻機爭奪戰(zhàn)
在全球范圍內(nèi)，臺積電、英特爾和三星等半導體巨頭之間的競爭正在升溫，它們競相獲得2nm以下工藝的High NA EUV設備。英特爾于2023年12月率先獲得該設備，臺積電于2024年第三季度緊隨其后。盡...分析師解讀阿斯麥「爆雷」
由于財測下調(diào)，阿斯麥美股ADR在周二遭遇暴跌，最終收跌16.26%至730.43美元，創(chuàng)下了1998年以來的最大單日跌幅。荷蘭，不止ASML
從ASML、NXP、ASM等老牌巨頭，到BESI、Nearfield等新興力量，荷蘭無疑是一個創(chuàng)新的熔爐，這個國家對尖端技術(shù)的擁抱從未止步。這一點無疑值得我們學習和借鑒。光刻技術(shù)，有了新選擇
在不同的階段，每一代光刻機都遇到了前所未有的挑戰(zhàn)與難題，與此同時，光刻技術(shù)也在這個過程中不斷演進。兩大半導體巨頭公布最新財報
存儲芯片與邏輯芯片市場的需求變化，反映了在AI浪潮之下全球HBM嚴重供不應求，主要內(nèi)存制造商正持續(xù)增加資本投資，擴產(chǎn)HBM的火熱態(tài)勢。投資界24h | 俄羅斯宣布造出首臺350nm光刻機； 95后，一舉融資70億；安徽引導金一舉要投7家GP
公司背后，是一位95后華人少年Alexandr Wang。19歲那年，他從麻省理工學院退學，和同樣從卡內(nèi)基梅隆大學退學的Lucy Guo創(chuàng)辦了Scale AI。都說AI燒錢，但Scale AI卻成為全...全球光刻機巨頭，一夜跌沒1968億
4月17日，光刻機巨頭阿斯麥發(fā)布了2024年第一季度財報。財報顯示，公司一季度銷售額為52.9億歐元，同比下降22%，環(huán)比下降27%；凈利潤為12.24億歐元，環(huán)比下降40%。High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
英特爾獲得的全球首臺High-NA EUV光刻機不僅標志著該公司在半導體制造領(lǐng)域的一大進步，也展示出其在推動先進光刻技術(shù)發(fā)展方面的決心和能力。EUV光刻機，大結(jié)局？
瑞利判據(jù)一直是光刻機發(fā)展的根本遵循，被光刻產(chǎn)業(yè)界奉為“金科玉律”。當前的光刻機發(fā)展已經(jīng)進入高NA(Numerical aperture，數(shù)值孔徑)的EUV光刻時代，制程可達2nm及以下，預計2025年...半導體設備巨頭，怎么看？
半導體設備大廠紛紛發(fā)布了最新財報，我們一起來看看這些行業(yè)巨頭的財報表現(xiàn)，以及對于行業(yè)未來走勢的預期和看法。ASML：從飛利浦棄兒到光刻之王
ASML高歌猛進于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，將光刻機的制程（即最小的電路柵格間距離）從7納米推到了5納米。而由此，ASML的光刻霸主地位也最終確定。
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